後處理對於無鉛?酸?コウ薄膜特性之影響應用於非揮發性鐵電記憶體之研究【電子書籍】[ 蘇志文 ]

＜p＞本論文利用溶膠凝膠法在鍍有Pt下電極之?基板上成長無鉛非當量?酸?コウ薄膜(NKN-based)，透過不同RTA退火?度及高?爐?度調控，搭配XRD、XRR、SEM、XPS、J-E、εr、tanδ、室?P-E及變?P-E等量測，試圖找出較有利於鐵電記憶體的製程?度條件，並且利用額外?雜適量Li元素進入NKN結構的方式，改善薄膜之微結構並提升其電特性，進一部探討對於鐵電記憶體之影響。
從本研究可知，隨著RTA退火?度逐漸提高，特性有所提升，主要是因為薄膜結晶性變好、緻密性變高，而當RTA?度達 750 oC並＜/p＞画面が切り替わりますので、しばらくお待ち下さい。
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